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征稿通知 | “超快激光微纳制造”专题


发布单位:编辑部 | 点击次数:150次 | 发布时间:2024-05-28

超快激光微纳制造技术在过去的几十年中取得了长足的发展。得益于其独特的三维微纳加工能力和广泛的材料适用性,使其在微纳机械、微纳光子学、生物工程、生化传感等领域有着广泛的应用。然而,目前该领域仍面临着一系列亟待解决的科学技术问题,包括如何同时实现高精度和高效率的三维纳米级激光加工、如何实现跨尺度自由曲面激光精密刻蚀加工、如何实现多功能材料加工制造等。

本专题将主要围绕超快激光微纳制造领域的共性关键科学技术问题进行探讨,特邀华中科技大学武汉光电国家研究中心熊伟教授、邓磊敏研究员及高辉副教授担任该专题主持人,热忱欢迎相关领域的专家学者提交高质量的研究论文,展现高水平的学术成果。预计2025年以正刊形式刊出。

一、征稿范围

凡是未公开发表过的、与“集成光子学”相关的研究综述与研究论文均可投稿,主要包括但不限于:

● 超快激光与物质相互作用机理

● 超快激光微纳增材制造

● 超快激光微纳减材制造

● 超快激光光场调控

● 超快激光自适应加工

二、截稿时间

截稿时间:2024年11月15日

预计出版时间:2025年9月

三、特邀主持人

熊伟,华中科技大学教授,武汉光电国家研究中心激光科学技术研究部执行主任,国家高层次人才计划入选者。主要从事超快激光微纳3D/4D打印、光场调控器件、以及超快激光成像与表征等方面研究,在多维度激光微纳制造及应用方面开展了一系列开拓性工作,解决了现有加工技术在功能材料生长、组装和三维成型制造等方面多项难题,在Science Advances、IJEM、Advanced Materials 等国际知名期刊发表论文90余篇,授权国内外发明专利五十余件。相关成果曾用于解决稳定惯性约束核聚变的激光微纳靶腔的制造难题。

邓磊敏,华中科技大学研究员,博导,武汉光电国家研究中心主任助理。主要从事跨尺度激光微纳制造技术及装备研究,2018年入职以来主持发改委、航空工业集团、核工业集团、国家自然科学基金委等重大、面上项目30余项,总经费超1亿元。研制的激光刻蚀装备打破国外技术封锁,并成功应用于飞机生产;研制的五轴振镜激光制孔系统,制造幅面达国外装备的50余倍,突破下一代航空发动机异形气膜孔的制造瓶颈,显著提升航发性能和寿命。近年来在IJMTM、ACS applied materials & interfaces、Advanced Optical Materials等期刊发表高水平论文40余篇,申请专利50余项,直接成果转化超1000余万元。

高辉,华中科技大学武汉光电国家研究中心副教授,入选中国科协青年人才托举工程、湖北省优秀博士后跟踪支持计划,曾获全国优秀博士论文奖。要从事微纳光学、激光微纳制造相关研究,累计发表论文25篇,入选ESI高被引,单篇最高引用140余次;专利授权12项;主持国家自然科学基金等多项项目;多次在PIERS、APNFO、AOMATT、3M-NANO等国际会议作邀请报告;担任中国光学工程学会微纳专委会副秘书长、中国仪器仪表学会科普专委会委员/科普专家、Opto-Electronic Advances武汉办公室主任/青年编委、《中国激光》青年编委等职务。

四、投稿要求

1. 投稿时请选择“超快激光微纳制造”专题,投稿栏目选择“电信、电子、光电”。按照本刊的审稿流程,通过审稿后快速网络首发,并以正刊形式发表。

2. 论文形式

研究综述:近年具有代表性的研究成果的深度总结,具有前瞻性和指导性,能引领未来研究的创新发展方向。第一作者应为具有高级职称的学者。

研究论文:围绕主题,具有原创性、科学与技术价值,内容翔实,写作严谨,反映最新科研成果。

3. 论文撰写格式规范(参考本刊网站“稿件格式及示例”),信息完整、内容翔实,无涉密内容,不少于6000字。

4. 来稿未在正式出版物上发表过,也未在其他刊物或会议的审稿过程中,不存在一稿多投现象;保证投稿文章的合法性(无抄袭、剽窃、侵权等不良行为)。

5. 其他事项请参阅本刊网站投稿指南。

五、栏目编辑

编辑:周洁

电话:027-87543916-812

邮箱:zhoujie@mail.hust.edu.cn

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主 办:华中科技大学
主 编:李元元
刊 号:ISSN 1671-4512
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